Платинирование

Платинирование — это процесс нанесения тонкого слоя платины на поверхности различных материалов для улучшения их эксплуатационных характеристик, таких как коррозионная стойкость, износостойкость и проводимость. Это важно как для промышленных, так и для декоративных применений, включая электронику, медицину и ювелирное дело.

Платина, как благородный металл, обладает уникальными свойствами, такими как высокая устойчивость к коррозии, отличная электропроводность и катализаторные свойства. Эти качества делают её идеальной для использования в самых разнообразных областях — от промышленности до высокой ювелирной моды.

Технология гальванического платинирования

Гальваническое платинирование — это процесс нанесения слоя платины на поверхность с помощью электрического тока. В отличие от других методов нанесения, таких как химическое платинирование, гальваника позволяет точно контролировать толщину покрытия и обеспечивать его однородность.

Основные этапы гальванического платинирования

Подготовка поверхности: перед нанесением платины важно тщательно очистить и подготовить металлическую поверхность. Это может включать механическое или химическое травление для удаления загрязнений и улучшения адгезии.

Выбор электролита: для платинирования используются специальные растворы, содержащие соли платины, такие как хлороплатиновая кислота (H2PtCl6) или сульфатные и фосфатные электролиты. Состав электролита зависит от желаемого результата и материала, на который наносится платина.

Процесс нанесения: платина осаждается на поверхности под воздействием постоянного электрического тока. Состав электролита, подготовка поверхности деталей, плотность тока и температура раствора играют ключевую роль в достижении желаемого качества покрытия.

Оборудование для гальванического платинирования: для этого процесса используются гальванические ванны, источники тока, электроды и аноды, выполненные из платины или титана. Важно поддерживать стабильные параметры тока и электролита для обеспечения высокого качества покрытия.

Химическое платинирование

Химическое платинирование, в отличие от гальванического, не требует применения электрического тока. В этом случае платина осаждается на поверхность из химических растворов, обычно в виде солей платины. Этот метод может быть полезен для нанесения покрытия на сложные или тонкие детали, которые не могут быть обработаны гальваникой.

Применение платинирования

Платинирование в промышленности

Электроника: платинированные контакты используются в производстве высококачественных электронных компонентов.

Медицинские устройства: платина используется для покрытия медицинских инструментов и имплантатов, так как она гипоаллергенна и устойчива к воздействию химических веществ и температур.

Катализаторы: платина широко применяется в качестве катализатора в химических реакциях, например, в процессах автомобильных катализаторов, для очистки выхлопных газов.

Ювелирное платинирование

Для ювелирных изделий платинирование используется для улучшения внешнего вида и долговечности металлов, таких как золото и серебро. Платинированные изделия приобретают блеск и стойкость к износу, что делает их более привлекательными для потребителей.

Платинирование для защиты от коррозии

Одним из наиболее важных применений платинирования является создание покрытия, которое защищает металлы от коррозии. Это особенно актуально для применения в химической и нефтехимической промышленности, где материалы подвержены агрессивным воздействиям.

Технология нанесения платины гальваническим методом

Для нанесения платины методом гальваники используются различные электролиты, содержащие, например, хлороплатиновую кислоту и другие соединения платины. Оборудование для этого процесса включает ванны с соответствующими растворами, источники тока, аноды и катоды. Производство должно быть оснащено средствами для точного контроля химических, температурных и электрических параметров процесса.

Преимущества платинирования

• Долговечность: платиновое покрытие обладает высокой стойкостью к коррозии и износу, что делает изделия более долговечными.
• Электропроводность: платина является отличным проводником электричества, что делает её идеальной для применения в электронной промышленности.
• Катализаторные свойства: платина используется в качестве катализатора для ускорения химических реакций, что особенно важно в нефтехимической и автомобильной промышленности.

Недостатки платинирования

• Высокая стоимость: платина — дорогой металл, что делает платинирование дорогостоящим процессом.
• Сложность процесса: для качественного нанесения платины требуется точный контроль за параметрами процесса, что требует специализированного оборудования.

Стоимость платинирования

Цена платинирования может варьироваться в зависимости от используемых материалов, сложности работы и толщины покрытия. В Москве есть компании, которые предлагают платинирование металлов и ювелирных изделий на заказ., НО найти по-настоящему компетентного поставщика услуги довольно сложно. Стоимость может зависеть от таких факторов, как:

• Габариты изделия
• Толщина покрытия
• Сложность и фасон деталей

Платинирование гальваническое является важной технологией, используемой для улучшения эксплуатационных характеристик материалов!

Применение подробно

Химическая промышленность

Электролизеры для хлорщелочного производства

Платиновые покрытия на титановых анодах устойчивы к агрессивным средам (хлор, концентрированные щелочи) при плотности тока до 10 кА/м². Покрытия толщиной 5–10 мкм обеспечивают низкое перенапряжение и долговечность до 10 лет.
Основа представляет собой аноды из титана ВТ1-0 или ВТ1-00 в виде плоских пластин, сеток или перфорированных листов. Пластины имеют размеры от 0,5×0,5 м до 2×1 м, толщину 1–5 мм. Сетки обладают ячейками 1–10 мм, диаметром проволоки 0,5–2 мм. Титан выбран за коррозионную стойкость и способность формировать адгезионный оксидный слой.

Производство азотной кислоты

Покрытия на сетках из нержавеющей стали или титана катализируют окисление аммиака в процессе Оствальда при температурах 850–900 °C, обеспечивая выход азотной кислоты до 96%. Толщина покрытия 2–5 мкм минимизирует потери платины.
Основа состоит из сеток или перфорированных листов из стали 03Х17Н14М3, 08Х17Н13М2Т или титана ВТ1-0, ВТ1-00. Сетки имеют диаметр проволоки 0,1–0,5 мм, ячейки 0,5–2 мм, габариты от 0,3×0,3 м до 1×1 м. Титан применяется при высоких температурах, сталь — в менее агрессивных средах.

Защита оборудования

Покрытия на реакторах, трубах и клапанах защищают оборудование от коррозии в серной кислоте и хлористом водороде при температурах до 200 °C. Толщина покрытия 10–20 мкм обеспечивает срок службы до 15 лет.
Основа — стенки реакторов, трубы и клапаны из стали 08Х18Н10, 12Х18Н10Т или титана ВТ1-0, ВТ1-00. Реакторы — цилиндрические, диаметром 0,5–5 м, высотой 1–10 м, толщиной стенок 5–20 мм. Трубы — диаметром 10–500 мм, длиной до 10 м, толщиной стенок 2–10 мм. Клапаны — сферические или дисковые, диаметром 50–300 мм.

Синтез высокочистых реактивов

Покрытия на емкостях и электродах предотвращают загрязнение при производстве хлоридов и нитратов, обеспечивая чистоту до 99,999%. Толщина покрытия 1–3 мкм.
Основа — емкости и электроды из титана ВТ1-0, ВТ1-00 или боросиликатного стекла. Емкости имеют объем 0,1–100 л, толщину стенок 2–10 мм, форму цилиндра или куба. Электроды — пластины 50×50×2 мм или стержни диаметром 5–20 мм, длиной 50–200 мм.

Органический синтез

Покрытия на электродах ускоряют электрохимические реакции в синтезе органических соединений, таких как адипиновая кислота, благодаря каталитической активности платины. Толщина покрытия 0,5–2 мкм.
Основа — электроды в виде пластин, стержней или сеток из углерода (графит ГМЗ, МГ-1, стеклоуглерод) или титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 10×10×1 мм до 100×100×5 мм, стержни — диаметр 5–10 мм, длина 50–200 мм. Сетки — ячейки 1–5 мм, диаметр проволоки 0,5–1 мм.

Производство пероксида водорода

Покрытия на катодах повышают эффективность производства пероксида водорода, минимизируя побочные реакции. Толщина покрытия 3–5 мкм.
Основа — катоды в виде плоских пластин или пористых структур из углерода (графит ГМЗ, МГ-1, углеродный войлок). Пластины — от 100×100×2 мм до 500×500×5 мм, пористые структуры — толщина 1–10 мм, поры 10–100 мкм.

Производство полимеров

Покрытия на электродах обеспечивают стабильность при электрохимическом синтезе полимеров, таких как полиамиды, в щелочных средах. Толщина покрытия 2–5 мкм.
Основа — электроды в виде пластин или сеток из титана ВТ1-0, ВТ1-00 или стали 03Х17Н14М3, 08Х17Н13М2Т. Пластины — от 50×50×2 мм до 200×200×5 мм, сетки — ячейки 1–5 мм, диаметр проволоки 0,5–1 мм.

Аэрокосмическая промышленность

Датчики температуры и давления

Покрытия на электродах датчиков в реактивных двигателях работают при температурах до 1600 °C, обеспечивая точность измерений ±0,1%. Толщина покрытия 5–10 мкм.
Основа — электроды в виде тонких пластин или проволок из керамики на основе оксида алюминия (А995, Поликор). Пластины — от 5×5×0,5 мм до 20×20×2 мм, проволоки — диаметр 0,1–0,5 мм, длина 10–50 мм.

Камеры сгорания ракетных двигателей

Покрытия на соплах и камерах сгорания предотвращают эрозию при температурах до 2000 °C в окислительных средах. Толщина покрытия 20–50 мкм.
Основа — компоненты из сплавов ХН65МВ, ХН78Т или ХН45Ю. Сопла — конические, диаметром 0,1–2 м, длиной 0,5–3 м, толщина стенок 5–20 мм. Стенки — цилиндрические, диаметром 0,5–1 м, длиной 0,5–2 м.

Контакты спутниковых систем

Покрытия повышают надежность электроники в вакууме и при радиации до 1000 МГр. Толщина покрытия 1–3 мкм.
Основа — контакты в виде штырей, пластин или пружин из меди М1, М0б или золота. Штыри — диаметр 0,5–2 мм, длина 5–20 мм. Пластины — от 5×5×0,5 мм до 20×20×1 мм. Пружины — диаметр проволоки 0,1–0,5 мм, длина 5–10 мм.

Антенные элементы

Покрытия на антеннах улучшают проводимость и устойчивость к коррозии от атомарного кислорода. Толщина покрытия 2–5 мкм.
Основа — антенны в виде параболических тарелок, стержней или плоских панелей из алюминия АД1, АМг6 или углеродных композитов. Тарелки — диаметр 0,3–3 м, толщина 1–5 мм. Стержни — диаметр 5–20 мм, длина 0,5–2 м. Панели — от 0,5×0,5×2 мм до 2×2×5 мм.

Терморегулирующие системы спутников

Покрытия на тепловых трубках повышают долговечность при перепадах температур от –150 до +150 °C. Толщина покрытия 5–10 мкм.
Основа — тепловые трубки в виде цилиндрических или плоских каналов из меди М1, М0б или титана ВТ1-0, ВТ1-00. Цилиндры — диаметр 5–20 мм, длина 0,5–2 м, толщина стенок 0,5–2 мм. Плоские каналы — от 10×50×2 мм до 50×200×5 мм.

Резьбовые соединения

Покрытия на резьбовых соединениях предотвращают холодную сварку в вакууме. Толщина покрытия 3–5 мкм.
Основа — болты и гайки из титана ОТ4, ВТ6 или ВТ16. Болты — диаметр 5–20 мм, длина 20–100 мм. Гайки — внутренний диаметр 5–20 мм, высота 5–15 мм.

Электроника и микроэлектроника

Контакты и высокочастотные разъемы

Покрытия обеспечивают низкое переходное сопротивление (менее 10 мОм) и устойчивость к коррозии при частотах до 100 ГГц. Толщина покрытия 1–3 мкм.
Основа — штыри, пластины или гнезда из меди М1, М0б или золота. Штыри — диаметр 0,5–2 мм, длина 5–20 мм. Пластины — от 5×5×0,5 мм до 10×10×1 мм. Гнезда — внутренний диаметр 0,5–2 мм, глубина 2–5 мм.

Микроэлектромеханические системы

Покрытия на электродах повышают надежность при вибрациях и температурах до 200 °C. Толщина покрытия 0,5–2 мкм.
Основа — электроды в виде пластин или кантилеверов из монокристаллического кремния. Пластины — от 1×1×0,1 мм до 5×5×0,5 мм. Кантилеверы — длина 0,1–1 мм, ширина 10–100 мкм, толщина 1–10 мкм.

Полупроводники

Покрытия на подложках улучшают проводимость и предотвращают диффузию металлов при температурах до 500 °C. Толщина покрытия 1–2 мкм.
Основа — круглые пластины из кремния или карбида кремния (КРС, СКМ). Пластины — диаметр 50–300 мм, толщина 0,5–2 мм.

Сенсоры токсичных газов

Покрытия на электродах повышают чувствительность к угарному газу и метану при температурах до 300 °C. Толщина покрытия 0,5–1 мкм.
Основа — электроды в виде пластин или проволок из керамики на основе оксида алюминия (А995, Поликор). Пластины — от 2×2×0,5 мм до 10×10×1 мм. Проволоки — диаметр 0,1–0,5 мм, длина 5–20 мм.

Радиочастотные фильтры

Покрытия на электродах обеспечивают стабильность сигналов в радарах и телекоммуникациях. Толщина покрытия 1–2 мкм.
Основа — тонкие пластины из кварца. Пластины — от 5×5×0,5 мм до 20×20×1 мм.

Гибридные микросхемы

Покрытия на подложках повышают термическую стабильность при температурах до 400 °C. Толщина покрытия 2–5 мкм.
Основа — плоские пластины из керамики на основе оксида алюминия или нитрида алюминия. Пластины — от 10×10×0,5 мм до 50×50×2 мм.

Антенные элементы СВЧ-устройств

Покрытия снижают потери на поверхностный эффект в СВЧ-антеннах при частотах до 60 ГГц. Толщина покрытия 1–3 мкм.
Основа — пластины или стержни из меди М1, М0б. Пластины — от 5×5×0,5 мм до 20×20×2 мм. Стержни — диаметр 1–5 мм, длина 10–50 мм.

Силовая электроника

Покрытия на контактных площадках IGBT предотвращают окисление при токах до 100 А. Толщина покрытия 2–7 мкм.
Основа — пластины из меди М1, М0б. Пластины — от 5×5×0,5 мм до 20×20×2 мм.

Электрохимические применения

Электролизеры для хлора и щелочей

Платинированные титановые аноды устойчивы к коррозии при плотности тока до 10 кА/м². Толщина покрытия 5–10 мкм.
Основа — аноды из титана ВТ1-0, ВТ1-00 в виде пластин или сеток. Пластины — от 0,5×0,5 м до 2×1 м, толщина 2–5 мм. Сетки — ячейки 1–10 мм, диаметр проволоки 0,5–2 мм.

Производство зеленого водорода

Покрытия на титановых пластинах или войлоке повышают эффективность электролиза воды в кислотных средах (pH 2). Толщина покрытия 3–5 мкм.
Основа — пластины или войлок из титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 100×100×2 мм до 500×500×5 мм. Войлок — толщина 1–5 мм, поры 10–100 мкм.

Спектроскопия и полярография

Покрытия на электродах обеспечивают точность до 0,01 мВ в электрохимических ячейках для анализа растворов. Толщина покрытия 1–3 мкм.
Основа — электроды в виде пластин или стержней из углерода (графит ГМЗ, МГ-1, стеклоуглерод). Пластины — от 10×10×1 мм до 50×50×2 мм. Стержни — диаметр 2–5 мм, длина 20–100 мм.

Гальванические ванны

Покрытия на анодах предотвращают загрязнение электролита при осаждении металлов (медь, никель). Толщина покрытия 5–10 мкм.
Основа — аноды в виде пластин или сеток из титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 100×100×2 мм до 500×500×5 мм. Сетки — ячейки 1–10 мм, диаметр проволоки 0,5–2 мм.

Генераторы озона

Покрытия на электродах обеспечивают стабильность при напряжениях до 10 кВ, производя озон для дезинфекции. Толщина покрытия 2–5 мкм.
Основа — электроды из титана ВТ1-0, ВТ1-00 в виде пластин или трубок. Пластины — от 50×50×1 мм до 200×200×2 мм. Трубки — диаметр 10–50 мм, длина 100–500 мм.

Электроосаждение для 3D-печати

Покрытия на анодах повышают качество металлических деталей, напечатанных электроосаждением. Толщина покрытия 5–10 мкм.
Основа — аноды из титана ВТ1-0, ВТ1-00 в виде пластин или сеток. Пластины — от 100×100×2 мм до 300×300×5 мм. Сетки — ячейки 1–5 мм, диаметр проволоки 0,5–1 мм.

Электролиз морской воды

Покрытия на анодах устойчивы к хлоридам при производстве хлора из морской воды. Толщина покрытия 5–10 мкм.
Основа — аноды из титана ВТ1-0, ВТ1-00 в виде пластин или сеток. Пластины — от 100×100×2 мм до 500×500×5 мм. Сетки — ячейки 1–10 мм, диаметр проволоки 0,5–2 мм.

Медицина и биотехнологии

Электроды для кардиостимуляторов и нейростимуляторов

Покрытия обеспечивают биосовместимость и устойчивость к физиологическим средам (pH около 7,4) при токах до 10 мА. Толщина покрытия 0,5–2 мкм.
Основа — электроды в виде проволок или пластин из титана ВТ1-0, ВТ1-00 или платины высокой чистоты. Проволоки — диаметр 0,1–0,5 мм, длина 5–20 мм. Пластины — от 2×2×0,5 мм до 5×5×1 мм.

Хирургические инструменты

Покрытия предотвращают коррозию и обладают антибактериальными свойствами, снижая риск заражений. Толщина покрытия 2–5 мкм.
Основа — лезвия, зажимы или щипцы из стали 03Х17Н14М3, 08Х17Н13М2Т. Лезвия — длина 10 до 100 мм, толщина 0,9–2 мм. Зажимы — длина 50 до 200 мм, ширина 5–20 мм.

Биосенсоры

Покрытия на электродахах глюкометров повышают чувствительность к глюкозе при токах до 1 мкА. Толщина покрытия 0,5–1 мкм.
Обоснование — электроды в виде пластин или проволоки из углерода (графит ГМЗ, МГ-1, стеклоуглерод). Пластины — от 2×2×0,5 до 10×10 мм×1 мм. Проволоки — диаметр 0,1–0,5 мм, длина 5–20 мм.

Стоматологические имплантаты

Покрытия на титановых основах улучшают биосовместимость и предотвращают коррозию в ротовой полости. Толщина покрытия 2–5 мкм.
Основа — винты или пластины из титана ОТ4, ВТ6 или ВТ16. Винты — диаметр 2–5 мм, длина 5–20 мм. Пластины — от 10×10×1 мм до 20×20×2 мм.

Биотехнологические реакторы

Покрытия на электродах обеспечивают инертность при синтезе биомолекул (ферментов) в агрессивных средах. Толщина покрытия 1–3 мкм.
Основа — электроды в виде пластин или стержней из титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 5 до 50×50×2 см до 200×200×5 мм. Стержни — диаметр 5–20 мм, длина 50–200 мм.

Нейроинтерфейсы

Покрытия на микроэлектродах повышают проводимость и биосовместимость для записи сигналов мозга. Толщина покрытия 0,5–1 мкм.
Основа — микроэлектроды в виде проволок или пленок из полиимида. Проволоки — диаметр 10–50 мкм, длина 1–5 мм. Пленки — от 1×1×0,01 мм до 5×5×0,05 мм.

Глубокая стимуляция мозга

Покрытия на электродах минимизируют импеданс, обеспечивая точную стимуляцию при токах до 5 мА. Толщина покрытия 0,5–2 мкм.
Основа — электроды в виде проволок или игл из титана ВТ1-0, ВТ1-00 или полиимида. Проволоки — диаметр 0,05–0,2 мм, длина 5–20 мм. Иглы — диаметр 0,1–0,5 мм, длина 10–50 мм.

Сенсоры нейромедиаторов

Покрытия на электродах обеспечивают точное измерение дофамина и серотонина в реальном времени. Толщина покрытия 0,5–1 мкм.
Основа — электроды в виде проволок или пластин из углерода (графит ГМЗ, МГ-1, стеклоуглерод). Проволоки — диаметр 0,05–0,2 мм, длина 1–10 мм. Пластины — от 1×1×0,1 мм до 5×5×0,5 мм.

Производство оптического стекла

Тигли и плавильные камеры

Покрытия предотвращают загрязнение оптического стекла при температурах до 1500 °C, обеспечивая чистоту 99,99%. Толщина покрытия 10–20 мкм.
Основа — цилиндрические или кубические тигли из титана ВТ1-0, ВТ1-00 или молибдена МЧ, МЧВП. Тигли — диаметр 50–500 мм, высота 100–1000 мм, толщина стенок 2–10 мм.

Оптические волокна

Покрытия на фильерах повышают термостойкость при производстве волокон при температурах до 1200 °C. Толщина покрытия 5–10 мкм.
Основа — фильеры в виде цилиндрических трубок или пластин из молибдена МЧ, МЧВП. Трубки — диаметр 2–20 мм, длина 10–200 мм, толщина стенок 1–2 мм. Пластины — от 10×10×2 до 20×20×5 мм.

Энергетика

Топливные элементы (PEMFC и SOFC)

Покрытия катализируют окисление водорода и восстановление кислорода, повышая КПД до 65%. Толщина покрытия 0,5–2 мкм.
Основа — мембраны или электроды из углерода (графит ГМЗ, МГ-1) или керамики на основе иттрий-стабилизированного циркония. Пластины — от 50×50×0,5 мм до 200×200×2 мм. Войлок — толщина 1–5 мм.

Тонкопленочные солнечные элементы

Покрытия на контактах повышают проводимость, снижая потери энергии. Толщина покрытия 1–3 мкм.
Основа — контакты в виде полос из меди М1, М0б. Полосы — ширина 1–5 мм, длина 10–200 мм, толщина 0,1–0,5 мм.

Портативные топливные элементы

Покрытия на электродах увеличивают долговечность до 5000 часов в портативных устройствах. Толщина покрытия 2–5 мкм.
Основа — электроды в виде пластин из углерода (графит ГМЗ, МГ-1). Пластины — от 20×20×0,5 мм до 50×50×1 мм.

Литий-ионные батареи

Покрытия на электродах улучшают проводимость и предотвращают коррозию при циклах зарядки. Толщина покрытия 1–2 мкм.
Основа — электроды в виде фольги из меди М1, М0б. Фольги — ширина 50–500 мм, длина до 10 м, толщина 10–50 мкм.

Электролизеры для аммиака

Покрытия на электродах повышают эффективность синтеза аммиака в щелочных средах. Толщина покрытия 2–3 мкм.
Основа — электроды в виде пластин из титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 100×100×2 мм до 500×500×5 мм.

Катоды MCFC

Покрытия на катодах расплавных карбонатных топливных элементов обеспечивают стабильность при температурах до 650 °C. Толщина покрытия 2–2 мкм.
Основа — катоды в виде пластин или сеток из никеля НП2, НП0 или стали 03Х17Н14М3, 08Х17Н13М2Т. Пластины — от 50×50×1 мм до 200×200×3 мм. Сетки — ячейки 1–5 мм, диаметр проволоки 0,5–1 мм.

Научное оборудование

Лабораторные тигли и чашки

Покрытия устойчивы к агрессивным веществам и температурам до 1500 °C, предотвращая загрязнение образцов. Толщина покрытия 10–15 мкм.
Основа — тигли и чашки из титана ВТ1-0, ВТ1-00 или молибдена МЧ, МЧВП. Тигли — диаметр 10–100 мм, высота 10–200 мм. Чашки — диаметр 10–50 мм, высота 5–20 мм.

Сканирующая зондовая микроскопия

Покрытия на зондах повышают проводимость, обеспечивая разрешение до 0,1 нм. Толщина покрытия 0,5–2 мкм.
Основа — зонды в виде игл из кремния или вольфрама ВА, ВИ. Иглы — длина 0,1–1 мм, диаметр кончика 2–10 нм.

Масс-спектрометрия

Покрытия на ионизационных элементах обеспечивают стабильность при высоких напряжениях. Толщина покрытия 1–3 мкм.
Основа — пластины или проволока из титана ВТ1-0, ВТ1-00 или стали 03Х17Н14М3, 08Х17Н13М2Т. Пластины — от 5×5×1 мм до 20×20×2 мм. Проволока — диаметр 0,1–0,5 мм, длина 5–20 мм.

Эталонные резисторы

Покрытия обеспечивают стабильность сопротивления (25 ppm/°C) для квантовых эталонов. Толщина покрытия 1–2 мкм.
Основа — пластины из керамики на основе оксида алюминия или кварца. Пластины — от 5×5×1 мм до 10×10×2 мм.

Новые применения

Производство стекловолокна

Покрытия на фильерах повышают прочность и термостойкость при температурах до 1200 °C. Толщина покрытия 5–10 мкм.
Основа — фильеры в виде трубок или пластин из молибдена МЧ, МЧВП. Трубки — диаметр 5–10 мм, длина 50–100 мм. Пластины — от 10×10×2 мм до 20×20×5 мм.

Водоочистка

Покрытия на электродах ускоряют электрохимическое обеззараживание воды, удаляя патогены при токах до 5 кА/м². Толщина покрытия 3–5 мкм.
Основа — электроды в виде пластин или сеток из титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 100×100×2 мм до 500×500×5 мм. Сетки — ячейки 1–5 мм, диаметр проволоки 0,5–1 мм.

Микрореакторы для наночастиц

Покрытия на электродах обеспечивают каталитическую активность при синтезе наночастиц золота и серебра. Толщина покрытия 0,5–2 мкм.
Основа — электроды в виде пластин или стержней из углерода (графит ГМЗ, МГ-1). Пластины — от 10×10×1 мм до 50×50×2 мм. Стержни — диаметр 2–5 мм, длина 20–50 мм.

Квантовые вычисления

Покрытия на подложках сверхпроводящих цепей повышают стабильность при температурах 15 мК. Толщина покрытия 0,5–1 мкм.
Основа — подложки в виде пластин из ниобия Нб1, НбЦ1. Пластины — от 10×10×0,5 мм до 50×50×0,1 мм.

Каталитические мембраны

Покрытия на мембранах для химических реакторов повышают эффективность каталитических процессов. Толщина покрытия 1–3 мкм.
Основа — пористые пластины из керамики на основе оксида алюминия или титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 50×50×1 мм до 200×200×5 мм, поры 1–10 мкм.

Промышленные датчики

Покрытия на электродах повышают точность мониторинга процессов, таких как pH или концентрация газов. Толщина покрытия 1–2 мкм.
Основа — электроды в виде пластин из керамики на основе оксида алюминия. Пластины — от 5×5×0,5 мм до 20×20×1 мм.

Полупроводниковые материалы

Покрытия на электродах предотвращают загрязнение при производстве кремния и карбида кремния. Толщина покрытия 2–5 мкм.
Основа — электроды в виде пластин из титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 100×100×2 мм до 300×300×5 мм.

Композитные покрытия с наноалмазами

Покрытия на анодах повышают качество осаждения композитных покрытий. Толщина покрытия 5–10 мкм.
Основа — аноды в виде пластин из титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 100×100×2 мм до 200×200×5 мм.

Очистка сточных вод

Покрытия на электродах удаляют органические загрязнители в электрохимических системах. Толщина покрытия 3–5 мкм.
Основа — электроды в виде пластин или сеток из титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 100×100×2 мм до 500×500×5 мм. Сетки — ячейки 1–5 мм, диаметр проволоки 0,5–1 мм.

Контроль качества пищевых продуктов

Покрытия на сенсорах повышают чувствительность к патогенам и химическим загрязнителям. Толщина покрытия 0,5–1 мкм.
Основа — сенсоры в виде пластин из углерода (графит ГМЗ, МГ-1). Пластины — от 2×2×0,5 мм до 5×5×1 мм.

Синтез графена

Покрытия на электродах обеспечивают чистоту при электрохимическом синтезе графена. Толщина покрытия 1–2 мкм.
Основа — электроды в виде пластин из меди М1, М0б или титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 10×10×1 мм до 50×50×2 мм.

Электроэнцефалография

Покрытия на микроэлектродах повышают чувствительность для записи мозговой активности. Толщина покрытия 0,5–1 мкм.
Основа — микроэлектроды в виде проволок из полиимида или углерода (графит ГМЗ, МГ-1). Проволоки — диаметр 10–50 мкм, длина 1–5 мм.

Улавливание углекислого газа

Покрытия на электродах повышают селективность в электрохимических системах улавливания CO₂. Толщина покрытия 1–3 мкм.
Основа — электроды в виде пластин из углерода (графит ГМЗ, МГ-1). Пластины — от 50×50×1 мм до 200×200×2 мм.

Пьезоэлектрические материалы

Покрытия на электродах улучшают проводимость при производстве пьезокерамики. Толщина покрытия 2–5 мкм.
Основа — электроды в виде пластин из титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 10×10×1 мм до 50×50×2 мм.

Электрохимическая литография

Покрытия на микроэлектродах обеспечивают точность при нанесении узоров с разрешением до 10 нм. Толщина покрытия 0,5–1 мкм.
Основа — микроэлектроды в виде игл или пластин из углерода (графит ГМЗ, МГ-1). Иглы — диаметр 10–50 мкм, длина 0,1–1 мм. Пластины — от 1×1×0,1 мм до 5×5×0,5 мм.

Разделение изотопов

Покрытия на мембранах повышают селективность при разделении изотопов урана или лития. Толщина покрытия 2–5 мкм.
Основа — мембраны в виде пористых пластин из титана ВТ1-0, ВТ1-00. Пластины — от 50×50×1 мм до 200×200×5 мм, поры 1–10 мкм.

Нейроинтерфейсы для протезов

Покрытия на электродах обеспечивают стабильность при управлении протезами через сигналы мозга. Толщина покрытия 0,5–1 мкм.
Основа — электроды в виде проволок или пленок из полиимида. Проволоки — диаметр 10–50 мкм, длина 1–5 мм. Пленки — от 1×1×0,01 мм до 5×5×0,05 мм.