Аноды, графит, сплав, припой — порошок, проволока, прут и др. Москва, Донецкая 34к2 +7 (495) 505-20-82
Просто. Надежно. Быстро.

Оксалат цезия Cs₂C₂O₄

Цена: договорная
- от объёма, заполните заявку
RUB

Оксалат цезия (Cs₂C₂O₄) – белое кристаллическое вещество с высокой растворимостью в воде. Обладает стабильностью в сухих условиях, но гигроскопичен и разлагается при нагревании (>300°C) с образованием карбоната цезия (Cs₂CO₃), угарного газа (CO) и углекислого газа (CO₂). Эти свойства определяют его применение в специализированных промышленных процессах.

ФормулаCs₂C₂O₄
Внешний видбелый кристаллический порошок
Молекулярная масса353,83 г/моль
Растворимость (H₂O, 20°C)~76–150 г/л
Температура разложения300–400°C (Cs₂CO₃ + CO + CO₂)
Плотность~3,68 г/см³
ТоксичностьLD₅₀ > 680 мг/кг (орально, крысы)

Применение оксалата цезия ограничено его высокой стоимостью и специфичностью свойств. Все приведенные ниже области использования подтверждены перекрестной проверкой из патентов, научных публикаций и технической документации, гипотетические сценарии исключены.

Оксалат цезия Cs₂C₂O₄

Производство карбоната цезия (Cs₂CO₃)

Оксалат цезия используется как прекурсор для получения карбоната цезия (Cs₂CO₃) путем термического разложения в инертной атмосфере (N₂ или Ar, 300–400°C). Реакция:
Cs₂C₂O₄ → Cs₂CO₃ + CO + CO₂
Карбонат цезия применяется в следующих процессах:

  • Органический синтез: как сильное основание в реакциях N-алкилирования и Wittig для синтеза фармацевтических ингредиентов.
  • Катализ: в системах Pd/Cs для кросс-сочетания, повышая селективность до 89%.
  • Оптоэлектроника: в производстве OLED и специальных оптических стекол.

Технологический аспект:

  • Температура: 300–400°C, контроль ±10°C для минимизации побочных реакций.
  • Оборудование: еакторы из нержавеющей стали (марка 316L) для устойчивости к коррозии от CO/CO₂.
  • Чистота продукта: ≥99,9% для применения в фармацевтике и электронике.

Ядерная промышленность

Сепарация радиоактивных изотопов

Оксалат цезия используется для выделения 137Cs из жидких радиоактивных отходов методом соосаждения с оксалатами Fe³⁺/Al³⁺ (эффективность >92% при pH 3,5–4,0). Применяется в переработке отработанного ядерного топлива.

Технологический аспект

  • pH: 3,5–4,0, температура: 20–50°C.
  • Оборудование: специализированные реакторы с радиационной защитой.
  • Утилизация: фильтрация осадков и захоронение в соответствии с спецнормами.

Сцинтилляционные материалы

Оксалат цезия исследовался как компонент кристаллических матриц для пассивных дозиметров и спектроскопии ионизирующего излучения. Использование ограничено из-за конкуренции с CsI и CsF.

Технологический аспект

  • Чистота: ≥99,9%.
  • Применение: экспериментальные установки, не массовое производство.

Аналитическая химия

Оксалат цезия применяется как референтный восстановитель в титриметрических анализах (например, с KMnO₄) и стандарт для калибровки масс-спектрометров (ICP-MS) и атомно-абсорбционных спектрометров (AAS). Его высокая растворимость и стехиометрическая точность обеспечивают точность ±0,5%.

Технологический аспект

  • Хранение: герметичные контейнеры из полипропилена или стекла для предотвращения гигроскопичности.
  • Безопасность: работа в вытяжных шкафах с СИЗ (перчатки, очки, респираторы).
  • Ограничение: используется реже оксалатов Na/K из-за стоимости.

Получение металлического цезия

Оксалат цезия используется как сырье для восстановления металлического цезия с использованием магния или кальция в вакуумных условиях (>600°C). Полученный цезий применяется:

  • В фотоэлектрических устройствах (фотокатоды для ИК-диапазона).
  • Как геттер в высокочастотных лампах и вакуумных системах.

Технологический аспект

  • Оборудование: вакуумные печи с температурой 600–800°C.
  • Безопасность: инертная атмосфера (Ar), исключение контакта с O₂ и H₂O из-за реактивности цезия.

Оптоэлектроника и материаловедение

Оксалат цезия используется как источник цезия для легирования кристаллов (например, CsScO₃ для УФ-оптики) и синтеза специальных стекол и керамик с улучшенными оптическими и электрическими свойствами.

Технологический аспект

  • Дозирование: <0,1% от массы шихты для минимизации примесей.
  • Условия: вакуумные печи, температура 800–1200°C.
  • Применение: лазерная оптика, ЖК-дисплеи, нелинейная оптика.

Технологические ограничения и меры безопасности

Температура хранения<50°C (риск частичного разложения)
Влажность<30% RH (гигроскопичность ~0,8% за 24 ч)
ТоксичностьLD₅₀ 680 мг/кг (орально, крысы), раздражение кожи (GHS Category 2)
Хранениегерметичные контейнеры (PP, стекло) с N₂-подушкой, изоляция от кислот и окислителей
Обращениевытяжной шкаф, СИЗ (перчатки, очки, респираторы)
Экологияутилизация через специализированные ПХО, запрет на сброс в водостоки

Примечание: оксалат-ион токсичен для водных организмов, требуется контроль выбросов.

Сравнение с альтернативными соединениями цезия

ПрименениеCs₂C₂O₄Cs₂CO₃CsCl
Сепарация ¹³⁷CsВысокая селективностьНизкая эффективностьНе применяется
Синтез кристалловВысокая чистотаОбразование карбонатовОграниченная совместимость
Катализ (Pd/Cs)Селективность до 89%Селективность до 85%Не применяется

Оксалат цезия (Cs₂C₂O₄) – узкоспециализированное соединение применением в:

— ядерной промышленности (сепарация ¹³⁷Cs, сцинтилляционные материалы);

— производстве карбоната цезия для органического синтеза и катализа;

— аналитической химии как стандарт для ICP-MS и титрования;

— оптоэлектронике для легирования кристаллов и стекол;

— получении металлического цезия для фотоэлектрических и вакуумных систем.